工業用反滲透設備所使用的工藝:

根據客戶的實際用水需求對定制設備配備不同的工藝，各個行業對于用水的標準不同，所以一般所應用工藝18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm等標準，電導率從20uS/cm-0.1uS/cm不等。并且還配備不同的預處理系統以及反滲透核心也會分為單級反滲透工藝和雙級反滲透工藝，而后處理系統我們公司準備了臭氧發生器、紫外線殺菌、二氧化氯等技術設備。反滲透設備污水處理設備

工業用反滲透設備應用范圍：

光電行業：

半導體材料、電路板、吵到材料、PDP離子顯示屏、實驗室、中試車間以及其他光電高科技精微產品。

精密機械行業：

飛機、高鐵、打印機、傳真機激光頭生產加工、硬盤讀寫、盤片以及對產品加工生產有特殊要求的精密產品加工能。

電廠:

反滲透設備*擁有給國家以及行業鍋爐供水標準的能力。

精細化工行業用水：

化工材料的生產和加工過程所用的溶劑及清洗過程；電子半導體、集成電路板上用到的化工材料；石英、硅材料生產、加工、提純；高純墨水、傳真打印機中的噴墨、納米墨水。

電鍍涂裝行業用水：反滲透設備污水處理設備

電鍍涂裝行業中，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm-5uS/cm以下的純水，另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下純水來清洗，此外超濾和反滲透還可以用來回收漂洗液中的貴重金屬離子，滲透過來的水再返回作鍍件清洗之用。